特許
J-GLOBAL ID：201403035548011632
抵抗箔ひずみゲージ製法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-100515
公開番号（公開出願番号）：特開2014-219357
出願日： 2013年05月10日
公開日（公表日）： 2014年11月20日
要約：
【課題】電気抵抗箔を用いたひずみゲージを製作する場合において、露光現像を繰り返すことによって設計のパタンの精度が低下してしまう欠点や、スクリーンやマスクの管理や製造時の工数が削減できない不具合を解消することができる抵抗箔ひずみゲージ製法を提供する。【解決手段】スクリーンやマスクを作ることなく、レーザ発生装置5からのレーザー照射によって、絶縁フィルム上に接着された抵抗箔3に塗布されたフォトレジストに露光し、エッチングすることでひずみゲージを製作する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
電気抵抗箔を使用しているひずみゲージの製造に於いて、スクリーンやマスクを用いず、絶縁ベース上に接着された抵抗箔上に塗布されたフォトレジスト面に、直接光を照射し、ゲージパタンを露光することを特徴とする。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2F063AA25
, 2F063EC15
, 2F063EC28
