特許

J-GLOBAL ID：201403036347486914

ナノ構造物の製造方法、ナノ構造物、センサ、および、太陽電池

発明者： 河口 紀仁 ,  吉村 昭彦
出願人/特許権者： 株式会社IHI
代理人 (1件)： 特許業務法人青海特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-259516
公開番号（公開出願番号）：特開2014-105129
出願日： 2012年11月28日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
要約：

【課題】ナノ構造体を成長させる基板の材質の制限を受けることなく、低コストで、アモルファスカーボンのナノ構造体を成膜する。【解決手段】ナノ構造物の製造方法は、グラフェンシートの単層体または多層体であるカーボンナノウォール220を、基板210の表面に対して垂直方向に延伸するように成長させてカーボンナノウォール層230を成膜する工程(CNW層成膜工程S110)と、レーザ光を照射して、カーボンナノウォール層230が曝される雰囲気下におけるカーボンナノウォール220の昇華温度以上にカーボンナノウォール層230を加熱する工程(照射工程S120)と、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

グラフェンシートの単層体または多層体であるカーボンナノウォールを、基板の表面に対して垂直方向に延伸するように成長させてカーボンナノウォール層を成膜する工程と、 レーザ光を照射して、前記カーボンナノウォール層が曝される雰囲気下における前記カーボンナノウォールの昇華温度以上に該カーボンナノウォール層を加熱する工程と、 を含むことを特徴とするナノ構造物の製造方法。

IPC (4件)：

C01B 31/02 ,  B82Y 40/00 ,  B82Y 30/00 ,  H01L 51/42

FI (4件)：

C01B31/02 101Z ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L31/04 D

Fターム (27件)：

4G146AA01 ,  4G146AA07 ,  4G146AA15 ,  4G146AA17 ,  4G146AB07 ,  4G146AB10 ,  4G146AC03B ,  4G146AC16B ,  4G146AD01 ,  4G146AD02 ,  4G146AD05 ,  4G146AD22 ,  4G146AD24 ,  4G146AD40 ,  4G146BC09 ,  4G146BC45 ,  4G146CB11 ,  4G146CB16 ,  5F151AA05 ,  5F151AA11 ,  5F151AA16 ,  5F151DA01 ,  5F151DA03 ,  5F151FA06 ,  5F151FA13 ,  5F151FA15 ,  5F151GA03