特許
J-GLOBAL ID:201403038345571976
過酸化水素を含む被処理水の処理方法および過酸化水素除去装置
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-083447
公開番号(公開出願番号):特開2014-205103
出願日: 2013年04月12日
公開日(公表日): 2014年10月30日
要約:
【課題】 排水中に存在する過酸化水素を効果的に分解し、電子部品の洗浄に容易に再利用できるような濃度にまで低減することができる排水処理方法と、それを具現化する過酸化水素除去装置を提供する。【解決手段】 過酸化水素を含む被処理水中の溶存酸素を所定値以下にした上で、紫外線および光触媒を用いて過酸化水素を分解する方法と、溶存酸素低減装置と、光触媒と該光触媒に紫外線を照射可能な紫外線光源とを収容する過酸化水素分解槽とを備えた過酸化水素除去装置を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
過酸化水素を含む被処理水の処理方法であって、
前記被処理水中の溶存酸素濃度を溶存酸素除去装置によって0.1mg/L以下に低減させる第一工程と、
光触媒に190nm以上のピーク波長を有する紫外線を照射させた状態で、前記第一工程で処理された前記被処理水を前記光触媒に接触させて、前記被処理水中の過酸化水素を分解する第二工程と、
からなることを特徴とする過酸化水素を含む被処理水の処理方法。
IPC (5件):
C02F 1/72
, C02F 1/20
, B01D 61/00
, C02F 1/32
, B01J 35/02
FI (5件):
C02F1/72 101
, C02F1/20 Z
, B01D61/00
, C02F1/32
, B01J35/02 J
Fターム (52件):
4D006GA41
, 4D006HA01
, 4D006HA41
, 4D006KA12
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006KE02Q
, 4D006KE12P
, 4D006KE13P
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MB10
, 4D006MC22
, 4D006MC30
, 4D006MC53
, 4D006PA05
, 4D006PB08
, 4D006PB62
, 4D006PB63
, 4D006PB64
, 4D006PC01
, 4D037AA13
, 4D037AB11
, 4D037BA23
, 4D037BB07
, 4D037CA01
, 4D050AA13
, 4D050AB33
, 4D050BB20
, 4D050BC09
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA03
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA48A
, 4G169CA05
, 4G169CA10
, 4G169EA10
, 4G169EA12
, 4G169EB18Y
, 4G169EC29
, 4G169FB30
, 4G169HA01
, 4G169HB01
, 4G169HC12
, 4G169HE05
, 4G169HF05
前のページに戻る