特許
J-GLOBAL ID：201403039130783871
試料塗布装置の感知および位置決め
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
河村 洌
, 藤森 洋介
, 奥出 進也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-521676
公開番号（公開出願番号）：特表2014-521938
出願日： 2012年07月13日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：
基板に対する試料塗布装置の位置決めのためのシステムおよび方法は以下を含む:(a)基板に近接した試料塗布装置の像を得て、像は試料塗布装置に対応する直接像領域および基板の表面から反射された試料塗布装置の像に対応する第1の反射像領域を含む;(b)直接像領域における試料塗布装置のエッジの位置を判定する;(c)第1の反射像領域における反射された試料塗布装置のエッジの位置を判定する;(d)試料塗布装置のエッジと反射された試料塗布装置のエッジとの間の距離を判定する;(e)エッジ間の距離に基づいて基板に対する試料塗布装置の位置を判定する。
請求項（抜粋）：
基板に対する試料塗布装置の位置決め方法であって、前記方法は、
前記試料塗布装置に対応する直接像領域と、前記基板の表面から反射された前記試料塗布装置の像に対応する第1の反射像領域を含む、基板に近接した試料塗布装置の像を得て、
前記直接像領域における前記試料塗布装置のエッジの位置を判定し、
前記第1の反射像領域における反射された前記試料塗布装置のエッジの位置を判定し、
前記試料塗布装置のエッジと前記反射された前記試料塗布装置のエッジとの間の距離を判定し、および
前記エッジ間の距離に基づいて、前記基板に対する前記試料塗布装置の位置を判定する
ことを含む、基板に対する試料塗布装置の位置決め方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
2G052AA29
, 2G052AA30
, 2G052AA32
, 2G052AA33
, 2G052AD26
, 2G052AD46
, 2G052CA03
, 2G052CA46
, 2G052FA05
, 2G052GA32
, 2G052HA12
, 2G052HC04
, 2G052HC16
, 2G052HC43
, 2G052JA06
, 2G052JA09
