特許
J-GLOBAL ID：201403039566764422
リソグラフィ装置、プログラマブル・パターニングデバイス、及びリソグラフィ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-525375
公開番号（公開出願番号）：特表2014-522128
出願日： 2012年07月20日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：
【課題】例えば、プログラマブルパターニングデバイスを含む柔軟で低コストなリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】ある実施の形態においては、開示されるリソグラフィ装置は、複数のビームを所望のパターンに従って変調する変調器(102,112)と、変調されたビームが入射する供与構造体(208)と、を含む。供与構造体は、変調され入射したビームが供与構造体から基板(114)への供与材料の転写を生じさせるよう構成されている。【選択図】図27
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器と、
変調されたビームを受けて前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F146AA28
, 5F146BA03
, 5F146CB33
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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