特許
J-GLOBAL ID:201403040578959928

ガス処理方法およびガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大井 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-163232
公開番号(公開出願番号):特開2014-018784
出願日: 2012年07月24日
公開日(公表日): 2014年02月03日
要約:
【課題】900°Cよりも相当に低い温度の被処理ガス中の一酸化窒素を、高い脱硝率で還元処理することができるガス処理方法およびガス処理装置を提供する。【解決手段】本発明のガス処理方法は、窒素酸化物を含有する被処理ガスを処理するガス処理方法であって、前記被処理ガスにアンモニアが混合されてなる混合ガスに対して、紫外線を照射する工程を有し、前記混合ガス中における一酸化窒素に対するアンモニアの割合が、モル比で1.5以上であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
窒素酸化物を含有する被処理ガスを処理するガス処理方法であって、 前記被処理ガスにアンモニアが混合されてなる混合ガスに対して、紫外線を照射する工程を有し、 前記混合ガス中における一酸化窒素に対するアンモニアの割合が、モル比で1.5以上であることを特徴とするガス処理方法。
IPC (4件):
B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/32 ,  F01N 3/08
FI (4件):
B01D53/34 129C ,  B01D53/32 ,  F01N3/08 B ,  F01N3/08 C
Fターム (17件):
3G091AB14 ,  3G091AB15 ,  3G091BA14 ,  3G091CA17 ,  3G091FB02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC04 ,  4D002BA06 ,  4D002BA09 ,  4D002BA14 ,  4D002CA20 ,  4D002DA07 ,  4D002EA01 ,  4D002EA05 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB20
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献:
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