印刷用凸版及びそれを用いた有機EL素子の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-184155
公開番号（公開出願番号）：特開2014-040066
出願日： 2012年08月23日
公開日（公表日）： 2014年03月06日
要約：

【課題】有機ELに必要とされる高精細な印刷パターンを形成し、面内均一な印刷転写を実現する印刷用凸版を提供する。【解決手段】基材10の一方の面に凸型パターン13を単位画素として形成してなる印刷用凸版であって、凸型パターン13の断面形状が、基材10に接する側の下端部の幅a’、印刷インキに接する側の上端部の幅a、隣接する凸型パターン13との上端部の間隔b、凸型パターン13の上端部から下端部までの距離を高さdとした場合、上端部の幅a≧下端部の幅a’、高さd×0.5≦上端部の幅a≦高さd×1、且つ、上端部の幅a≦凸型パターンの上端部の間隔bであり、上端部の幅a+凸型パターンの上端部の間隔b≦150μm、且つ、高さd≦50μmであり、前記凸型パターン13は隣接凸型パターン13と繋がっていない独立したパターンである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の一方の面に凸型パターンを単位画素として形成してなる印刷用凸版であって、前記凸型パターンの断面形状が、基材に接する側の下端部の幅a’、印刷インキに接する側の上端部の幅a、隣接する凸型パターンとの上端部の間隔b、凸型パターンの上端部から下端部までの距離を高さdとした場合、上端部の幅a≧下端部の幅a’、高さd×0.5≦上端部の幅a≦高さd×1、且つ、上端部の幅a≦凸型パターンの上端部の間隔bであり、上端部の幅a+凸型パターンの上端部の間隔b≦150μm、且つ、高さd≦50μmであり、前記凸型パターンは隣接凸型パターンと繋がっていない独立したパターンであることを特徴とする印刷用凸版。

IPC (4件)：

B41N 1/06 , B41N 1/12 , H01L 51/50 , H05B 33/10

FI (4件)：

B41N1/06 , B41N1/12 , H05B33/14 A , H05B33/10

Fターム (28件)：

2H114AA01 , 2H114AA10 , 2H114AA14 , 2H114AA27 , 2H114BA01 , 2H114BA10 , 2H114DA04 , 2H114DA46 , 2H114DA47 , 2H114DA48 , 2H114DA49 , 2H114DA50 , 2H114DA51 , 2H114DA56 , 2H114DA61 , 2H114EA04 , 2H114EA05 , 2H114FA06 , 2H114FA13 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107BB06 , 3K107CC33 , 3K107CC35 , 3K107CC42 , 3K107FF15 , 3K107GG07 , 3K107GG35

引用特許：

出願人引用 (1件)

凸版印刷用凸版及び印刷物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-021277 出願人：凸版印刷株式会社

審査官引用 (1件)

凸版印刷用凸版及び印刷物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-021277 出願人：凸版印刷株式会社

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