特許
J-GLOBAL ID：201403042777786776

組成物及びパターン形成方法

発明者：
先崎 尊博

先崎 尊博 について

, 
宮城 賢

宮城 賢 について

, 
宮下 健一郎

宮下 健一郎 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-176066
公開番号（公開出願番号）：特開2014-034626
出願日： 2012年08月08日
公開日（公表日）： 2014年02月24日
要約：
【課題】レジストからなるガイドパターンの浸食を低減することが可能な、ブロックコポリマー含有組成物および該組成物を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(1)複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーと、沸点が40°C以上である炭化水素系溶剤と、該炭化水素系溶剤に該当しない有機溶剤とを含有することを特徴とする組成物。(2)前記炭化水素系溶剤と前記有機溶剤との質量比が、(炭化水素系溶剤/有機溶剤)≧0.25である前記組成物。(3)さらに、20°Cにおける蒸気圧が0.05hPa以下であり、且つ凝固点が25°C以下である前記炭化水素系溶剤及び前記有機溶剤に該当しない化合物を含有する前記組成物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーと、沸点が40°C以上である炭化水素系溶剤と、該炭化水素系溶剤に該当しない有機溶剤とを含有することを特徴とする組成物。
IPC (6件)：
C08L 101/00 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  C08L 53/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C08L101/00 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  C08L53/00 ,  H01L21/30 502D
Fターム (39件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA05 ,  2H096JA04 ,  2H125AE13P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN39P ,  2H125AN63P ,  2H125BA08P ,  2H125BA22P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA05 ,  4J002AA001 ,  4J002BP001 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  5F146AA28
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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