特許
J-GLOBAL ID：201403044239819705

シラス構造体およびシラス構造体の製造方法

発明者：
野口 大輔

野口 大輔 について


出願人/特許権者：
株式会社 高千穂

株式会社 高千穂 について

, 
独立行政法人国立高等専門学校機構

独立行政法人国立高等専門学校機構 について


代理人 (5件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-156590
公開番号（公開出願番号）：特開2014-043644
出願日： 2013年07月29日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：
【課題】消臭性、吸湿性、光学特性等の機能を備えているとともに、経年変化によってもシラスの薄膜が基材から剥離し難いシラス構造体を提供する。【解決手段】基材3と、物理気相成長法により基材3の表面に設けられたシラスの薄膜5とを有するシラス構造体1である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材と、 物理気相成長法により、前記基材に設けられたシラスの薄膜と、 を有することを特徴とするシラス構造体。
IPC (2件)：
C23C 14/08 ,  G09F 9/30
FI (2件)：
C23C14/08 K ,  G09F9/30 380
Fターム (14件)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BC08 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5C094AA31 ,  5C094BA52 ,  5C094DA12 ,  5C094FB20
引用特許：
審査官引用 (3件)

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