特許
J-GLOBAL ID:201403044494601152

移動ステージ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横井 幸喜
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-092360
公開番号(公開出願番号):特開2013-222769
特許番号:特許第5454971号
出願日: 2012年04月13日
公開日(公表日): 2013年10月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】調整された雰囲気下で被処理体の処理を行う処理室内に設置される移動ステージにおいて、 前記被処理体が配置されるステージ本体と、 前記ステージ本体をガス圧によって非接触で支持するガス支持部とを有し、 前記ガス支持部は、少なくとも前記処理室の横面または/および縦面に面して前記面にガスが吹き出される一または複数のガスパッドを有し、 前記ガスパッドの外周面側と前記ガス支持部による支持面側と反対側のガスパッド背面とを間隔をおいて覆うパッドカバーを有し、 前記ガスパッド外周面と前記パッドカバー周縁との隙間によって微粒粉塵吸引口が設けられ、 前記ガスパッド背面と前記パッドカバーとの間の空間に開口し前記パッドカバー内空間を介して前記微粒粉塵吸引口に連通し、前記処理室外に伸長する吸引ガス排気ラインが設けられていることを特徴とする移動ステージ。
IPC (1件):
H01L 21/68 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01L 21/68 K
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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