特許

J-GLOBAL ID：201403045194824369

両疎媒性ブロックコポリマーおよびその用途

発明者： リュー,クオジュン ,  シオン,ディーン
出願人/特許権者： クイーンズ ユニバーシティ アット キングストン
代理人 (1件)： 特許業務法人北青山インターナショナル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-504127
公開番号（公開出願番号）：特表2014-513174
出願日： 2012年04月12日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：

両疎媒性ブロックコポリマー、両疎媒性ブロックコポリマーを調製する方法、およびその用途を提供する。両疎媒性ブロックコポリマーを使用して、ガラス、印画紙、または布地などの材料表面に両疎媒性被覆物を調製することができる。両疎媒性ブロックコポリマーを使用して、被覆粒子、例えば、後に材料表面を被覆するために使用されるシリカナノ粒子を被覆することができる。このような被覆粒子およびその使用も本明細書において提供される。【選択図】図14

請求項（抜粋）：

少なくとも1つのフッ化ポリマーブロックおよび少なくとも1つのアンカーポリマーブロックを含む両疎媒性(amphiphobic)ブロックコポリマーであって、前記少なくとも1つのアンカーポリマーブロックが、ポリマー間架橋を行うことができ、かつ任意に基材と共有グラフトすることができる、両疎媒性ブロックコポリマー。

IPC (10件)：

C08F 297/00 ,  C08J 7/04 ,  C08K 3/36 ,  C08L 33/14 ,  C09D 153/00 ,  C09D 183/04 ,  C09D 7/12 ,  C09D 5/02 ,  B32B 27/30 ,  B32B 27/00

FI (11件)：

C08F297/00 ,  C08J7/04 L ,  C08K3/36 ,  C08L33/14 ,  C09D153/00 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  C09D5/02 ,  B32B27/30 D ,  B32B27/30 A ,  B32B27/00 101

Fターム (76件)：

4F006AA11 ,  4F006AA12 ,  4F006AA17 ,  4F006AA31 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA38 ,  4F006AB24 ,  4F006AB52 ,  4F006AB76 ,  4F006BA11 ,  4F006EA03 ,  4F006EA05 ,  4F100AA17A ,  4F100AA20B ,  4F100AB01A ,  4F100AD00A ,  4F100AE01A ,  4F100AG00A ,  4F100AK01A ,  4F100AK17B ,  4F100AK25B ,  4F100AK52B ,  4F100AL04B ,  4F100AN00A ,  4F100AP00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DE01B ,  4F100DG01A ,  4F100DG10A ,  4F100DG11A ,  4F100DG12A ,  4F100EH46B ,  4F100EJ54 ,  4F100GB72 ,  4F100GB81 ,  4F100JB05 ,  4F100JB06 ,  4J002BG071 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD206 ,  4J002GH02 ,  4J026HA11 ,  4J026HA26 ,  4J026HA28 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HB11 ,  4J026HB26 ,  4J026HB28 ,  4J026HB32 ,  4J026HB39 ,  4J026HB45 ,  4J026HB50 ,  4J026HC11 ,  4J026HC32 ,  4J026HC39 ,  4J026HC45 ,  4J026HE01 ,  4J026HE04 ,  4J038CC101 ,  4J038CD091 ,  4J038CG141 ,  4J038CH251 ,  4J038CQ001 ,  4J038DL031 ,  4J038GA12 ,  4J038GA15 ,  4J038KA10 ,  4J038MA06 ,  4J038MA09 ,  4J038MA10 ,  4J038NA07 ,  4J038PB02 ,  4J038PC10