基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-271382
公開番号（公開出願番号）：特開2014-116545
出願日： 2012年12月12日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
要約：

【課題】複数の処理モジュールにてダミー基板の処理と製品基板の処理とを並行して行うことが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、搬送容器Cから取り出された基板Wを、互いに異なる処理を行うための第1の処理モジュールPM2、PM4及び第2の処理モジュールPM3を含む複数の処理モジュールPM1〜PM4に、基板搬送室13を介して搬入して基板処理を行う。このとき、第1の処理モジュールPM2、PM4は、基板Wの搬入を待っている待機時間が予め設定した設定時間を超えたときに、ダミー基板保持部Cから第1の処理モジュールPM2、PM4にダミー基板DWを連続して搬入して連続ダミー処理を行う。そして、製品基板Wを収納した搬送容器Cが容器載置部11に載置されたときには、製品基板Wを第2の処理モジュールPM3に搬入して基板処理を行う工程と前記連続ダミー処理とを並行して行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

容器載置部に載置され、複数の基板を収納する搬送容器から取り出された基板を、基板搬送室を介して処理モジュールに搬入し、当該基板に対して基板処理を行う基板処理装置において、前記基板搬送室に各々接続され、互いに異なる処理を行うための第1の処理モジュール及び第2の処理モジュールを含む複数の処理モジュールと、前記基板搬送室内に設けられ、当該基板搬送室内への未処理基板の搬入、及び当該基板搬送室からの処理済み基板の搬出、並びに各処理モジュールとの間の基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、ダミー処理用の複数のダミー基板を保持するダミー基板保持部と、前記第1の処理モジュールが基板の搬入を待っている待機時間が予め設定した設定時間を超えたときに、前記ダミー基板保持部からダミー基板を前記基板搬送室を介して前記第1の処理モジュール内に連続して搬入し、各ダミー基板により連続ダミー処理を行うステップと、製品基板を収納した搬送容器が容器載置部に載置されたときに、当該搬送容器から取り出した製品基板を前記基板搬送機構により、前記第2の処理モジュールに搬入して基板処理を行う工程と前記連続ダミー処理とを並行して行うステップと、を実行するための制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/677 , H01L 21/31

FI (2件)：

H01L21/68 A , H01L21/31 C

Fターム (27件)：

5F045AA06 , 5F045AA09 , 5F045AA20 , 5F045AB31 , 5F045AC09 , 5F045AC15 , 5F045EB08 , 5F045EN04 , 5F045HA16 , 5F131AA02 , 5F131BA04 , 5F131BB04 , 5F131CA32 , 5F131DA08 , 5F131DA32 , 5F131DA33 , 5F131DA36 , 5F131DA42 , 5F131DB02 , 5F131DB57 , 5F131DB76 , 5F131DD03 , 5F131DD33 , 5F131DD34 , 5F131DD46 , 5F131DD53 , 5F131DD85

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