特許
J-GLOBAL ID:201403045316902960

大粒子多結晶シリコンフイルムを形成するための物品および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-552533
公開番号(公開出願番号):特表2014-511024
出願日: 2012年01月10日
公開日(公表日): 2014年05月01日
要約:
テンプレート型は、型材料から形成された型本体を含む。型本体は、少なくとも1つの主面を有し、この主面は、主面上に配置されたパターン形成用材料から形成されたパターン層を有する。このパターン層は、高核生成エネルギーバリア表面および複数の核生成表面を有し、よって、溶融半導体材料の核生成表面との接触角は、溶融半導体材料の高核生成エネルギーバリア表面との接触角よりも小さく、核生成表面は、型材料またはパターン形成用材料のいずれかから形成される。
請求項(抜粋):
テンプレート型において、 型材料から形成された、少なくとも1つの主面を有する型本体、および 前記主面上に配置されたパターン形成用材料から形成されたパターン層であって、高核生成エネルギーバリア表面および複数の核生成表面を画成するパターン層、 を備え、 前記核生成表面での溶融半導体材料の接触角は、前記高核生成エネルギーバリア表面での該溶融半導体材料の接触角より小さい、テンプレート型。
IPC (3件):
H01L 21/208 ,  C01B 33/02 ,  H01L 31/04
FI (3件):
H01L21/208 D ,  C01B33/02 E ,  H01L31/04 H
Fターム (31件):
4G072AA01 ,  4G072BB09 ,  4G072BB12 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072MM38 ,  4G072NN02 ,  5F053AA03 ,  5F053BB04 ,  5F053BB12 ,  5F053BB13 ,  5F053BB14 ,  5F053BB41 ,  5F053DD01 ,  5F053DD03 ,  5F053DD04 ,  5F053DD11 ,  5F053DD20 ,  5F053FF01 ,  5F053GG02 ,  5F053GG06 ,  5F053HH01 ,  5F053HH05 ,  5F053LL05 ,  5F053RR05 ,  5F053RR08 ,  5F151AA03 ,  5F151BA11 ,  5F151CB06 ,  5F151GA04

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