特許
J-GLOBAL ID:201403045469884855
ラミネート装置及びこれを用いたラミネート処理システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西山 忠克
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2012000755
公開番号(公開出願番号):WO2012-108164
出願日: 2012年02月04日
公開日(公表日): 2012年08月16日
要約:
本発明は、ワークのラミネート処理や搬出入が短時間で効率がよく、よりコンパクトで安価なラミネート装置及びこれを用いたラミネート処理システムを提供することを目的としている。 本発明のラミネート装置は、上部チャンバ部材40と、当該上部チャンバ部材40の下方に設置された熱板20とを備え、熱板20は、熱板20上に搬入された薄板状のワークWを加熱するものであり、上部チャンバ部材40は、熱板20から離間した上昇位置と、熱板20に当接してチャンバ空間Sを形成する下降位置との間で近接離間移動可能であり、上部チャンバ部材40の下面側に、熱板20上に搬入出されるワークWを保持する複数のアーム44が設置されており、当該アーム44が格納される凹部が熱板20の上面に形成されている。
請求項(抜粋):
薄板状のワークに対してラミネート処理を施すラミネート装置において、
ダイヤフラムが、その下面側に装着された上部チャンバ部材と、
前記上部チャンバ部材の下方に設置され、その上面に前記ワークが載置されるワーク載置部材と、を備え、
前記上部チャンバ部材及び前記ワーク載置部材のうち少なくとも一方は、前記上部チャンバ部材と前記ワーク載置部材とが離間した離間位置と、当該ワーク載置部材と上部チャンバ部材とが当接され、その内部にチャンバ空間を形成する当接位置と、の間で相対的に近接離間移動可能であり、
前記上部チャンバ部材の下面側に、前記ワーク載置部材上に搬入出される前記ワークを保持するためのアームが設けられたことを特徴とするラミネート装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4F211AD08
, 4F211AD29
, 4F211AG03
, 4F211SA07
, 4F211SC01
, 4F211SC06
, 4F211SH06
, 4F211SJ16
, 4F211SJ26
, 4F211SP18
, 4F211SP34
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