特許
J-GLOBAL ID：201403045914356872
露光装置及びデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-288554
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130258
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：
【課題】投影光学系と基板との間の空間を不活性ガスで置換する上で有利な技術を提供する。【解決手段】基板を露光する露光装置であって、マスク2のパターンを基板5に投影する投影光学系4と、投影光学系4と基板5との間の空間SPを取り囲む壁部材8と、不活性ガス供給源から供給される不活性ガスを分岐して第1供給系31及び第2供給系32のそれぞれに供給する分岐部33とを含み、空間SPを不活性ガスで充填するためのガス供給機構30と、不活性ガスの供給を制御する制御部7と、を有し、第1供給系31は、分岐部33から供給される不活性ガスを蓄積するバッファタンク35と、不活性ガスを空間SPに供給するための第1供給管36と、不活性ガスの供給を制御する第1バルブとを含み、第2供給系32は、分岐部33から供給される不活性ガスを空間SPに供給するための第2供給管38、39と、不活性ガスの供給を制御する第2バルブとを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を露光する露光装置であって、
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間を取り囲む壁部材と、
第1供給系と、第2供給系と、不活性ガス供給源から供給される不活性ガスを分岐して前記第1供給系及び前記第2供給系のそれぞれに供給する分岐部とを含み、前記空間を不活性ガスで充填するためのガス供給機構と、
前記第1供給系及び前記第2供給系のそれぞれによる不活性ガスの供給を個別に制御する制御部と、を有し、
前記第1供給系は、前記分岐部から供給される不活性ガスを蓄積するバッファタンクと、前記バッファタンクに蓄積された不活性ガスを前記空間に供給するための第1供給管と、前記第1供給系による不活性ガスの供給を制御するために前記第1供給管に配置された第1バルブとを含み、
前記第2供給系は、前記分岐部から供給される不活性ガスを前記空間に供給するための第2供給管と、前記第2供給系による不活性ガスの供給を制御するために前記第2供給管に配置された第2バルブとを含むことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 516F
2H097BB10
, 2H097GB02
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 2H097LA17
, 5F146BA03
, 5F146DA07
, 5F146DA27
, 5F146DB03
, 5F146DC09
