真空室内における基板の温度測定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-530114
公開番号（公開出願番号）：特表2014-532164
出願日： 2012年09月07日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：

本発明は、温度センサと基準体とを有する温度測定システムに関し、基準体の温度変化の検出のための手段および/または基準体の温度制御のための手段が設けられており、温度測定システムが真空内で使用されると基準体が温度センサに対して実質的に熱の逃げ道をなさず、温度センサの表面には基準体の表面からの、および温度検出が行われる表面からの放射のみが到達するよう、基準体が温度センサを周囲から遮蔽する。

請求項（抜粋）：

温度センサと基準体とを有する温度測定システムにおいて、前記基準体の温度変化の検出のための手段および/または前記基準体の温度制御のための手段が設けられており、前記温度測定システムが真空内で使用される場合、前記基準体が前記温度センサに対して実質的に熱の逃げ道をなさず、前記温度センサの表面には前記基準体の表面からの、および温度検出が行われるべき表面からの放射のみが到達するよう前記基準体が前記温度センサを周囲から遮蔽することを特徴とする温度測定システム。

IPC (3件)：

G01J 5/00 , G01J 5/06 , C23C 14/54

FI (3件)：

G01J5/00 101C , G01J5/06 , C23C14/54 D

Fターム (7件)：

2G066AA07 , 2G066AC01 , 2G066BA57 , 2G066BB09 , 4K029AA11 , 4K029AA24 , 4K029EA08

引用特許：

審査官引用 (7件)

特公昭38-019545
特開平3-221821
ウエハ温度測定方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-061521 出願人：オムロン株式会社

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