特許
J-GLOBAL ID:201403046733656242
噴霧ノズル装置、噴霧プロセス、およびその使用
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-519514
公開番号(公開出願番号):特表2014-527903
出願日: 2012年07月09日
公開日(公表日): 2014年10月23日
要約:
本発明は、液滴形成が改善された、新規な噴霧装置に関する。微粒化体積スループットを向上させてさらに小さい液滴が形成されるが、ここで液体ノズルから噴霧される液体に大量の空気が供給される。高体積比の結果、衝突を最小限に抑えて液滴の凝集を防止するように、搬送される液滴の間に平均自由行程が生じる。
請求項(抜粋):
噴霧装置であって、1はノズル先端であり、2は液体ノズルであり、3は中央ランス管4に接続された液体ノズル2を円状に包囲する空気遷移円錐Aを備える収束エアヘッダを含む筐体であり、前記ランス管は流入口6によって供給され、筐体3は、ノズルの周りの並流リングとしてガスを供給するための少なくとも1つの空気流入口9をさらに含み、ノズル先端1の末端に遷移要素TEを任意で含む、噴霧装置。
IPC (4件):
B05B 7/04
, A62C 31/02
, C05G 5/00
, A01C 23/00
FI (4件):
B05B7/04
, A62C31/02
, C05G5/00 A
, A01C23/00 K
Fターム (21件):
2B052BA07
, 2B052BC07
, 2B052DA08
, 2B052EC18
, 2B052ED03
, 2B052FA03
, 2B052FA09
, 2E189KA01
, 4F033QA05
, 4F033QA07
, 4F033QA10
, 4F033QB02Y
, 4F033QB03X
, 4F033QB09X
, 4F033QB12Y
, 4F033QD03
, 4F033QD15
, 4H061AA01
, 4H061AA04
, 4H061FF01
, 4H061JJ01
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (7件)
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