特許
J-GLOBAL ID：201403046756011621
周期性パターンの欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-187448
公開番号（公開出願番号）：特開2014-044150
出願日： 2012年08月28日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：
【課題】撮像デバイス用フォトマスクや表示デバイス用フォトマスクの様に、周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法の照明照射条件の最適化を課題とする。【解決手段】基板面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を異なる複数の照射角度で照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法である。パターンの正常部から、正常部に前記ムラ検査方法により光を照射した場合の回折光の強度と回折方向を計算によって求める。また、変動が加わった場合のパターン形状を推定し、これに前記ムラ検査方法により光を照射した場合の回折光の強度と回折方向を計算によって求める。両者の比較を行うことによって、被検査体である周期性パターンの最適な検査条件を算出する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板表面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を複数の照射角度で照射し、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査する周期性パターン検査方法であって、
少なくとも、
前記周期性パターンが設計値通りの形状、寸法、周期を有している場合に、照明光の照射角度を変化させた時の回折光強度分布を計算する正常パターン回折強度計算段階と
前記周期性パターンの形状、寸法、周期のうち少なくともいずれか一つが設計値から変動した場合について、照明光の照射角度を変化させた時の回折光強度分布を計算する変動パターン回折強度計算段階と、
前記正常パターン回折強度計算段階で得られた回折光強度分布と、前記変動パターン回折強度計算段階で得られた回折光強度分布を比較し、回折光強度の差が最も大きい照射角度を算出する照射角度算出段階と、を有し、
前記照射角度算出段階で得られた照射角度を用いて、前記基板を検査することを特徴とする周期性パターン検査方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051BB01
, 2G051BB17
, 2G051CA04
, 2G051CB06
, 2G051DA07
, 2G051DA08
, 2G051EA16
