特許
J-GLOBAL ID：201403046782127026

液処理装置

発明者：
江 頭 浩 司

江 頭 浩 司 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (8件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  磯貝 克臣 ,  名塚 聡 ,  岡田 淳平 ,  森 秀行 ,  堀田 幸裕 ,  山下 和也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-053483
公開番号（公開出願番号）：特開2013-187492
特許番号：特許第5596071号
出願日： 2012年03月09日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を水平に離間して下方より保持する回転自在な基板保持部と、 前記基板保持部を回転駆動する回転駆動部と、 前記基板保持部に保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、 前記基板保持部に保持された前記基板の上方に設けられ、当該基板に向かって空気を供給する空気供給部と、 前記空気供給部から供給された空気を吸引する吸引口を有する空気供給路であって、前記吸引口から吸引された空気を、当該基板保持部に保持された当該基板の下面と当該基板保持部との間に形成された基板下方空間に供給する前記空気供給路と、 前記基板保持部の側方に設けられ、前記基板から側方に飛散した処理液を回収する回収カップと、を備え、 前記空気供給路の前記吸引口は、平面視で、前記回収カップの外側に配置されていることを特徴とする液処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 651 B
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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