炭素膜積層体、並びにその積層体の製造方法及びそれを用いた潤滑材

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：棚井澄雄 , 志賀正武
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012062061
公開番号（公開出願番号）：WO2012-153819
出願日： 2012年05月10日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

本発明は、炭素膜のもつ基材への高い付着性、硬度、表面平坦性、低相手材攻撃性、透明性、高熱伝導性を利用し、潤滑油などの液体・半液体潤滑剤を用いることなく、低摩擦および低磨耗、低相手攻撃性の摺動面をもつ炭素膜積層体を提供することを目的とするものであって、本発明は、基材と、該基材の上に設けられた、フッ素原子(F)を1×1019個/cm3以上の濃度で含有する酸化シリコン(Si0x、x=1〜2)からなる炭素膜付着増強層と、該炭素膜付着増強層上に設けられた炭素膜とを備え、該炭素膜はその膜中にフッ素原子を1×1019〜1×1021個/cm3の濃度で含有し、CuKα1線によるX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.5°)の43.9°のピークフィッティング曲線Aに41.7°のピークフィッティング曲線Bおよびベースラインを重畳して得られる近似スペクトル曲線を有する炭素膜積層体を提供するものである。

請求項（抜粋）：

基材と、該基材の上に設けられた、フッ素原子(F)を1×1019個/cm3以上の濃度で含有する酸化シリコン(Si0x、x=1〜2)からなる炭素膜付着増強層と、該炭素膜付着増強層上に設けられた炭素膜とを備え、該炭素膜はその膜中にフッ素原子を1×1019〜1×1021個/cm3の濃度で含有し、CuKα1線によるX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.5°)の43.9°のピークフィッティング曲線Aに41.7°のピークフィッティング曲線Bおよびベースラインを重畳して得られる近似スペクトル曲線(ここで、前記フィッティング曲線AはピアソンVII関数の曲線、前記フィッティング曲線Bは非対称正規分布関数の曲線、前記ベースラインは一次関数をもって表される。)を有することを特徴とする炭素膜積層体。

IPC (2件)：

C23C 16/27 , C10M 103/02

FI (2件)：

C23C16/27 , C10M103/02

Fターム (20件)：

4H104AA04A , 4H104AA22A , 4H104LA03 , 4H104PA01 , 4H104PA04 , 4H104PA49 , 4H104PA50 , 4H104QA15 , 4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030AA20 , 4K030BA28 , 4K030BA44 , 4K030BB01 , 4K030BB12 , 4K030CA02 , 4K030DA02 , 4K030FA01 , 4K030LA23

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