リソグラフィ装置、リソグラフィ方法及び物品製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-094636
公開番号（公開出願番号）：特開2014-168031
出願日： 2013年04月26日
公開日（公表日）： 2014年09月11日
要約：

【課題】重ね合わせ精度の点で有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】制御部は、各サンプルショット領域の位置を計測器に計測させ、サンプルショット領域のうちの第1のショット領域の位置の計測値に基づく第1回帰演算により求められたサンプルショット領域のうちの第2のショット領域の位置と、第2のショット領域の位置の計測値とに基づいて、第2のショット領域についての計測誤差を求め、基板上の少なくとも1つの部分領域にパターンを形成した後に、パターンを形成すべき基板上の他の部分領域または当該他の部分領域に隣接する領域における第2のショット領域のうちの一部のショット領域の位置を計測器に計測させ、その計測値と計測誤差とに基づいてパターンを形成すべき他の部分領域におけるショット領域の位置を第2回帰演算により求める。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上の複数のショット領域のそれぞれにパターンを順次形成するリソグラフィ装置であって、前記基板上のショット領域の位置を計測する計測器と、前記計測器を制御し、前記計測器の計測結果に基づいて前記複数のショット領域それぞれの位置を求める制御部と、を備え、前記制御部は、前記基板上の複数のサンプルショット領域それぞれの位置を前記計測器に計測させ、前記複数のサンプルショット領域のうちの第1の複数のショット領域それぞれの位置の計測値に基づく第1回帰演算により求められた前記複数のサンプルショット領域のうちの第2の複数のショット領域それぞれの位置と、前記第2の複数のショット領域それぞれの位置の計測値とに基づいて、前記第2の複数のショット領域それぞれについての計測誤差を求め、前記複数のショット領域の少なくとも1つにパターンを形成した後に、前記パターンを形成すべき前記基板上の部分領域における前記第2の複数のショット領域のうちの一部の複数のショット領域それぞれの位置を前記計測器に計測させ、その計測値と前記計測誤差とに基づいて前記部分領域におけるショット領域の位置を第2回帰演算により求める、ことを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/68 , G01B 11/00 , G01B 21/00

FI (6件)：

H01L21/30 525F , H01L21/30 516Z , G03F7/20 501 , H01L21/68 G , G01B11/00 H , G01B21/00 D

Fターム (62件)：

2F065AA03 , 2F065AA04 , 2F065AA20 , 2F065AA24 , 2F065AA65 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065EE02 , 2F065FF09 , 2F065FF42 , 2F065FF67 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065PP12 , 2F065PP21 , 2F065QQ17 , 2F065QQ23 , 2F069AA03 , 2F069AA04 , 2F069AA42 , 2F069AA68 , 2F069BB15 , 2F069CC07 , 2F069EE02 , 2F069GG06 , 2F069GG07 , 2F069GG59 , 2F069MM02 , 2H097KA20 , 2H097KA28 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 5F131AA02 , 5F131BA13 , 5F131CA02 , 5F131CA18 , 5F131DA33 , 5F131DA42 , 5F131DD43 , 5F131DD76 , 5F131EA02 , 5F131EA22 , 5F131EB11 , 5F131FA26 , 5F131FA32 , 5F131FA33 , 5F131JA12 , 5F131KA16 , 5F131KA34 , 5F131KA72 , 5F131KB07 , 5F131KB12 , 5F131KB32 , 5F131KB58 , 5F146AA17 , 5F146AA20 , 5F146AA26 , 5F146DA29 , 5F146DB05 , 5F146DC10 , 5F146FC03 , 5F146FC04

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