アミン化合物の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-245356
公開番号（公開出願番号）：特開2014-196464
出願日： 2013年11月27日
公開日（公表日）： 2014年10月16日
要約：

【課題】アミン化合物の新規な製造方法を提供する。【解決手段】気圧5.5MPa以下の条件にて、遷移金属化合物の存在下、式(1)で表される化合物を反応させ、式(2)で表される繰り返し単位を含む高分子の製造方法。〔式中、Xは脱離基、Ar1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素残基等、R1は水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素から水素原子1個を除いた基等を表す。Ar1とR1は、直接結合して又は連結基を介して環を形成してもよい。Raは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。複数個あるRaは、同一でも相異なってもよい。〕【選択図】なし

請求項（抜粋）：

気圧5.5MPa以下の条件にて、遷移金属化合物及び有機溶媒の存在下、式(1)で表される化合物同士を反応させる、式(2)で表される構成単位を含む高分子化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C08G 73/00 , C07F 7/10 , C07C 211/54 , C07C 209/10 , C07D 209/82

FI (6件)：

C08G73/00 , C07F7/10 S , C07F7/10 F , C07C211/54 , C07C209/10 , C07D209/82

Fターム (32件)：

4C204BB03 , 4C204CB25 , 4C204EB01 , 4C204FB07 , 4C204GB01 , 4H006AA02 , 4H006AC52 , 4H006BA21 , 4H006BA25 , 4H006BA44 , 4H006BA45 , 4H039CA41 , 4H039CA42 , 4H039CA71 , 4H039CD20 , 4H039CD90 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VP02 , 4H049VQ39 , 4H049VQ60 , 4H049VR23 , 4H049VR51 , 4H049VU36 , 4H049VW02 , 4J043PA02 , 4J043QB01 , 4J043RA33 , 4J043UA331 , 4J043UA332 , 4J043XA13 , 4J043XB21

引用特許：

出願人引用 (8件)

シリル置換基を有する新規カルバゾール誘導体
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-309623 出願人：国立大学法人群馬大学
特開昭61-207434
特開平1-121324

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審査官引用 (8件)

シリル置換基を有する新規カルバゾール誘導体
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-309623 出願人：国立大学法人群馬大学
特開昭61-207434
特開平1-121324

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