特許
J-GLOBAL ID:201403047344506622
炭素量子ドットの製造方法及び炭素量子ドット
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩田 伸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-003157
公開番号(公開出願番号):特開2014-133685
出願日: 2013年01月11日
公開日(公表日): 2014年07月24日
要約:
【課題】簡便かつ効率的な方法で炭素量子ドットを製造可能な炭素量子ドットの製造方法及び炭素量子ドットを提供すること。【解決手段】本発明の炭素量子ドットの製造方法は、炭素材と過酸化水素とを混合し、前記過酸化水素により前記炭素材中の炭素を分解反応させ、前記炭素材由来の炭素量子ドットを生成させた炭素量子ドット生成液を調製する炭素量子ドット生成液調製工程と、前記炭素量子ドット生成液中の前記炭素量子ドットと前記過酸化水素を分離して前記分解反応を停止させ、前記炭素量子ドットを取得する炭素量子ドット取得工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1(a)
請求項(抜粋):
炭素材と過酸化水素とを混合し、前記過酸化水素により前記炭素材中の炭素を分解反応させ、前記炭素材由来の炭素量子ドットを生成させた炭素量子ドット生成液を調製する炭素量子ドット生成液調製工程と、
前記炭素量子ドット生成液中の前記炭素量子ドットと前記過酸化水素を分離して前記分解反応を停止させ、前記炭素量子ドットを取得する炭素量子ドット取得工程と、
を含むことを特徴とする炭素量子ドットの製造方法。
IPC (3件):
C01B 31/02
, B82Y 40/00
, B82Y 20/00
FI (3件):
C01B31/02 101F
, B82Y40/00
, B82Y20/00
Fターム (12件):
4G146AA07
, 4G146AB04
, 4G146AC16B
, 4G146AD24
, 4G146AD40
, 4G146BA01
, 4G146CB10
, 4G146CB12
, 4G146CB14
, 4G146CB15
, 4G146CB26
, 4G146CB32
引用文献:
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