特許
J-GLOBAL ID:201403047436871700

反射防止体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 青木 宏義 ,  天田 昌行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-280242
公開番号(公開出願番号):特開2014-123077
出願日: 2012年12月21日
公開日(公表日): 2014年07月03日
要約:
【課題】互いにトレードオフとされてきた反射防止体の光学性能と強度の改善を同時に解決する。【解決手段】反射防止体(10)は、基材(11)と、基材(11)の主面上に設けられ、第1の平均ピッチ(PS)を有する第1の凹凸構造(S)と、第1の平均ピッチ(PS)よりも大きい第2の平均ピッチ(PL)を有する第2の凹凸構造(L)と、を具備し、第1の凹凸構造(S)の平均凸部頂部位置と第2の凹凸構造(L)の平均凸部頂部位置と、の最短距離が、0nm超100μm以下であり、第2の凹凸構造(L)の平均凸部頂部位置は、第1の凹凸構造(S)の平均凸部頂部位置よりも、基材(11)の面外方向に位置する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基材と、 前記基材の主面上に設けられ、第1の平均ピッチ(PS)を有する第1の凹凸構造(S)と、 前記第1の平均ピッチ(PS)よりも大きい第2の平均ピッチ(PL)を有する第2の凹凸構造(L)と、を具備し、 前記第1の凹凸構造(S)の平均凸部頂部位置と前記第2の凹凸構造(L)の平均凸部頂部位置との最短距離が、0nm超100μm以下であり、 前記第2の凹凸構造(L)の平均凸部頂部位置は、前記第1の凹凸構造(S)の平均凸部頂部位置よりも、前記基材の面外方向に位置することを特徴とする反射防止体。
IPC (1件):
G02B 1/11
FI (1件):
G02B1/10 A
Fターム (4件):
2K009AA01 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02
引用特許:
審査官引用 (2件)

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