特許
J-GLOBAL ID：201403048709987338
露光装置及びデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-284352
公開番号（公開出願番号）：特開2014-127620
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
要約：
【課題】スループットの低下を抑えながら、パターンを基板に転写するのに有利な露光装置を提供する。【解決手段】マスクのパターンを基板に転写する転写処理を行う露光装置であって、前記パターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間の空間に不活性ガスを供給するガス供給部と、前記基板に照射される光の照度を計測する計測部と、前記転写処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間において、前記基板に照射される光の照度が複数回計測されるように前記計測部を制御し、前記複数回計測された照度のそれぞれに基づいて、前記ガス供給部による不活性ガスの供給を制御することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを基板に転写する転写処理を行う露光装置であって、
前記パターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間に不活性ガスを供給するガス供給部と、
前記基板に照射される光の照度を計測する計測部と、
前記転写処理を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記投影光学系からの光が前記基板に照射されている間において、前記基板に照射される光の照度が複数回計測されるように前記計測部を制御し、前記複数回計測された照度のそれぞれに基づいて、前記ガス供給部による不活性ガスの供給を制御することを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F146DA27
, 5F146DB01
, 5F146DC12
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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