特許
J-GLOBAL ID：201403049532290788
プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法
出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社
東京エレクトロン株式会社 について
代理人 (2件)： 別役 重尚 , 村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-133680
公開番号（公開出願番号）：特開2013-258307
出願日： 2012年06月13日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
要約：
【課題】装置の構成を簡素化できるとともに、プラズマの生成効率の低下を防止することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置10は、チャンバ11と、該チャンバ11の内部に配置されて基板Sを載置する載置台12と、チャンバ11の外部において載置台12と対向するように配置されて高周波電源26に接続されるICPアンテナ13と、載置台12及びICPアンテナ13の間に介在する、導電体からなる窓部材14とを備え、窓部材14は複数の分割片27に分割され、複数の分割片27は互いに絶縁されるとともに導線29やコンデンサ付き導線30で接続されて閉回路31を形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を収容する処理室と、該処理室の内部に配置されて前記基板を載置する載置台と、前記処理室の外部において前記載置台と対向するように配置されて高周波電源に接続される誘導結合アンテナとを備えるプラズマ処理装置において、
前記誘導結合アンテナと対向する前記処理室の壁部を構成し、前記載置台及び前記誘導結合アンテナの間に介在する、導電体からなる窓部材をさらに備え、
前記窓部材は複数の分割片に分割され、
前記複数の分割片は互いに電気的に導通しないように直接接触せず、
少なくとも幾つかの前記分割片は導線で接続されて閉回路を形成し、
前記閉回路は、各前記分割片を接続する前記導線において少なくとも1つのコンデンサを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
Fターム (4件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2010-217271 出願人：東京エレクトロン株式会社 -
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2010-215119 出願人：東京エレクトロン株式会社 -
誘導結合プラズマ処理装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2009-274433 出願人：東京エレクトロン株式会社
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