特許

J-GLOBAL ID：201403049607264060

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 森本 未知数 ,  大越 康雄 ,  大平原 勇造 ,  小野 哲郎
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (3件)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-184847
公開番号（公開出願番号）：特開2014-044976
出願日： 2012年08月24日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：

【課題】本発明は、広範囲かつ高精度に制御可能な時間変調された高周波電力を供給する高周波電源を備えるプラズマ処理装置及び前記プラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】本発明は 真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第1の高周波電源と、前記真空容器内に配置され試料を載置する試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第2の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、前記第1の高周波電源または前記第2の高周波電源の少なくともいずれか1つは、時間変調された高周波電力を供給し、前記時間変調を制御するパラメータの一つは、2つ以上の異なる制御範囲を有し、前記制御範囲の一つは、高精度な制御を行うための制御範囲であることを特徴とする。【選択図】図15

請求項（抜粋）：

真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第1の高周波電源と、前記真空容器内に配置され試料を載置する試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第2の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、 前記第1の高周波電源または前記第2の高周波電源の少なくともいずれか1つは、時間変調された高周波電力を供給し、前記時間変調を制御するパラメータの一つは、2つ以上の異なる制御範囲を有し、前記制御範囲の一つは、高精度な制御を行うための制御範囲であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (2件)：

H01L21/302 101D ,  H01L21/302 105A

Fターム (22件)：

5F004AA01 ,  5F004AA02 ,  5F004AA05 ,  5F004BA16 ,  5F004BB07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA06 ,  5F004CA08 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004EA03 ,  5F004EA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-154016   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-154016   出願人：松下電器産業株式会社