シラン化合物またはクロロシラン化合物の精製方法、多結晶シリコンの製造方法、および、弱塩基性イオン交換樹脂の再生処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：大野聖二 , 森田耕司 , 片山健一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-083307
公開番号（公開出願番号）：特開2014-205589
出願日： 2013年04月11日
公開日（公表日）： 2014年10月30日
要約：

【課題】シラン化合物やクロロシラン化合物の精製工程において、ホウ素不純物を除去するためのイオン交換樹脂を長期間にわたって安定的に使用可能とする技術を提供すること。【解決手段】本発明では、シラン化合物やクロロシラン化合物の精製に用いられる弱塩基性イオン交換樹脂を、塩化水素を含むガスにより洗浄処理することとした。この洗浄処理を弱塩基性イオン交換樹脂の初期活性化に用いた場合には、より高い不純物吸着能を得ることができる。また、この洗浄処理を弱塩基性イオン交換樹脂の再生に用いることにより、イオン交換樹脂を長時間安定して使用することが可能となる。このため、長期運転における樹脂使用量の削減や、使用後の樹脂廃棄費用の削減が可能となる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

塩化水素を含むガスで洗浄処理した弱塩基性イオン交換樹脂を用い、シラン化合物またはクロロシラン化合物に含有されるホウ素不純物を前記弱塩基性イオン交換樹脂で吸着除去する、シラン化合物またはクロロシラン化合物の精製方法。

IPC (3件)：

C01B 33/107 , B01J 20/26 , B01J 20/34

FI (3件)：

C01B33/107 B , B01J20/26 C , B01J20/34 F

Fターム (19件)：

4G066AA06D , 4G066AA10D , 4G066AA34D , 4G066AC11B , 4G066AC33B , 4G066CA21 , 4G066CA31 , 4G066DA10 , 4G072AA05 , 4G072AA11 , 4G072AA12 , 4G072GG03 , 4G072JJ42 , 4G072MM03 , 4G072MM08 , 4G072MM11 , 4G072MM14 , 4G072UU01 , 4G072UU02

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭59-173182

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