特許

J-GLOBAL ID：201403050172282108

照射系、描画装置および物品の製造方法

発明者： 今岡 伸郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-231216
公開番号（公開出願番号）：特開2014-082171
出願日： 2012年10月18日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：

【課題】照射系において、複数の荷電粒子線における強度差を低減させる上で有利な効果を提供する。【解決手段】複数の荷電粒子線で対象を照射するための照射系であって、第1軸を中心軸として放射状に荷電粒子線を射出する射出部と、複数のレンズを含み、前記射出部によって射出された荷電粒子線を該複数のレンズにそれぞれ対応する複数の荷電粒子線に分割するレンズアレイと、を含み、前記複数のレンズは、各レンズを通過する荷電粒子線の主軸上における前記射出部のクロスオーバーと、該クロスオーバーに対応するレンズとの距離が該複数のレンズにわたって一定となるように配置されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の荷電粒子線で対象を照射するための照射系であって、 第1軸を中心軸として放射状に荷電粒子線を射出する射出部と、 複数のレンズを含み、前記射出部によって射出された荷電粒子線を該複数のレンズにそれぞれ対応する複数の荷電粒子線に分割するレンズアレイと、 を含み、 前記複数のレンズは、各レンズを通過する荷電粒子線の主軸上における前記射出部のクロスオーバーと、該クロスオーバーに対応するレンズとの距離が該複数のレンズにわたって一定となるように配置されている、ことを特徴とする照射系。

IPC (6件)：

H01J 37/153 ,  H01J 37/305 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/12 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (6件)：

H01J37/153 Z ,  H01J37/305 B ,  H01J37/21 Z ,  H01J37/12 ,  H01L21/30 541B ,  G03F7/20 521

Fターム (9件)：

5C033CC01 ,  5C033CC06 ,  5C033JJ07 ,  5C033MM07 ,  5C034BB02 ,  5C034BB08 ,  5F056AA33 ,  5F056EA02 ,  5F056EA05