特許

J-GLOBAL ID：201403050498010353

露光方法、露光装置および物品の製造方法

発明者： 岩谷 聡
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-228445
公開番号（公開出願番号）：特開2014-082288
出願日： 2012年10月15日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：

【課題】予備露光や光洗浄を行う際において、基板ステージの温度上昇を抑制する上で有利な技術を提供する。【解決手段】基板を保持する保持面を有するチャックと、前記チャックを貫通し、前記保持面の上方で前記基板を支持可能なピンとを有する基板ステージを備える露光装置において前記基板を露光する露光方法であって、反射部材を前記ピンにより前記保持面の上方で支持し、前記反射部材と前記保持面とが非接触の状態になるように前記基板ステージを制御する制御工程と、前記状態で前記反射部材に光を照射する照射工程と、前記照射工程の後に前記基板を露光する露光工程と、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持面を有するチャックと、前記チャックを貫通し、前記保持面の上方で前記基板を支持可能なピンとを有する基板ステージを備える露光装置において前記基板を露光する露光方法であって、 反射部材を前記ピンにより前記保持面の上方で支持し、前記反射部材と前記保持面とが非接触の状態になるように前記基板ステージを制御する制御工程と、 前記状態で前記反射部材に光を照射する照射工程と、 前記照射工程の後に前記基板を露光する露光工程と、 を含むことを特徴とする露光方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 503G ,  H01L21/30 515G

Fターム (11件)：

5F146AA22 ,  5F146AA26 ,  5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146CB43 ,  5F146CB45 ,  5F146CC08 ,  5F146CC09 ,  5F146CC10 ,  5F146DA26 ,  5F146DA27