撮像のための試料調製方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊東忠重 , 伊東忠彦 , 大貫進介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-268368
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130145
出願日： 2013年12月26日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：

【課題】アーティファクトを減少又は防止するように荷電粒子ビームシステム内での観察用に試料を調製する方法と装置を提供する。【解決手段】最終ミリング直前又はその間に、荷電粒子ビームを用いることによって試料上に材料が堆積される。その結果アーティファクトの存在しない表面が得られる。硬度の異なる複数の材料層を有する試料のSEM観察用の断面の調製、および、薄いTEM用試料の調製に有用である。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

解析用の試料を調製する方法であって: - 試料へ向けてイオンビームを案内することで、材料を除去し、かつ、不規則性を有する表面を曝露させる段階; - 前記の曝露された表面に材料を堆積する段階であって、前記堆積された材料は前記不規則性を滑らかにする、段階; - 前記試料へ向けてイオンビームを案内して、前記堆積された材料と一部の材料を前記曝露された表面から除去することで、滑らかな断面を生成する段階; を有する方法。

IPC (3件)：

G01N 23/225 , G01N 23/04 , H01J 37/317

FI (3件)：

G01N23/225 , G01N23/04 , H01J37/317 D

Fターム (21件)：

2G001AA03 , 2G001AA05 , 2G001BA07 , 2G001BA09 , 2G001BA11 , 2G001BA15 , 2G001CA03 , 2G001FA06 , 2G001GA06 , 2G001HA09 , 2G001JA11 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 2G001PA12 , 2G001PA14 , 2G001RA05 , 2G001RA10 , 2G001RA20 , 5C034DD09

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