処理液供給ノズル、基板処理装置および基板処理方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-116927
公開番号（公開出願番号）：特開2014-236119
出願日： 2013年06月03日
公開日（公表日）： 2014年12月15日
要約：

【課題】洗浄液に含まれる気泡が有する性質を利用して効果的に処理を行いながらも、基板へのダメージを防ぐことのできる処理液供給ノズル、基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】処理液Lによって基板Wを処理する基板処理装置であって、微細気泡を含む処理液Lを生成する処理液生成部4と、前記処理液生成部で生成された処理液を基板に供給する処理液供給ノズル3とを有し、前記処理液供給ノズルは、微細気泡を含む処理液を貯留可能なタンクと、前記タンクを二つのエリアに分ける第1の仕切り30aと、前記タンクの一方側のエリアに前記処理液を取り込む配管P1と、前記タンクの他端側のエリアから前記処理液を吐出する吐出口3aとを有し、前記タンクの前記一方側のエリア側の外側壁面に超音波発振器31を備えた処理液供給ノズルであることを特徴とする基板処理装置である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

微細気泡を含む処理液を貯留可能なタンクと、前記タンクを二つのエリアに分ける第1の仕切りと、前記タンクの一方側のエリアに前記処理液を取り込む配管と、前記タンクの他端側のエリアから前記処理液を吐出する吐出口とを有し、前記タンクの前記一方側のエリア側の外側壁面に超音波発振器を備えたことを特徴とする処理液供給ノズル。

IPC (6件)：

H01L 21/304 , B08B 3/12 , B08B 3/08 , B05D 1/26 , B05D 3/12 , B05D 3/10

FI (7件)：

H01L21/304 643D , H01L21/304 647Z , B08B3/12 Z , B08B3/08 Z , B05D1/26 Z , B05D3/12 F , B05D3/10 F

Fターム (34件)：

3B201BB22 , 3B201BB32 , 3B201BB38 , 3B201BB85 , 3B201BB92 , 3B201CD43 , 4D075AC06 , 4D075AC64 , 4D075AC88 , 4D075BB13Y , 4D075BB65Z , 4D075DA06 , 4D075DC22 , 4F042AA06 , 4F042EB17 , 5F157AA73 , 5F157AB02 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC02 , 5F157BB32 , 5F157BB37 , 5F157BB73 , 5F157BB79 , 5F157BD22 , 5F157CF10 , 5F157CF22 , 5F157CF60 , 5F157CF72 , 5F157DB02 , 5F157DB18 , 5F157DB22

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