特許
J-GLOBAL ID:201403055141165202
基板製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 光石 春平
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-134369
公開番号(公開出願番号):特開2013-258342
出願日: 2012年06月14日
公開日(公表日): 2013年12月26日
要約:
【課題】小径ウェハを製造する基板製造装置におけるトレイの待機場所を確保する。【解決手段】小径ウェハ11を複数枚搭載可能な形状の座繰り穴を有する複数枚のトレイ12と、小径ウェハ11及びトレイ12の搬送を行う搬送ロボット13と、人手により処理前の小径ウェハ11を置いたり処理後の小径ウェハ11を取り出したりする小径ウェハカセット14と、小径ウェハ11の位置と向きを揃えるアライナ15と、トレイ12の位置と向きを揃える移載機16とを有する大気搬送室と、トレイ12に搭載された小径ウェハ11を処理する処理装置22とを備える基板製造装置において、トレイ12を保管することの可能な段18が複数設けられたトレイストッカ17を大気搬送室21に備えることを特徴とする基板製造装置を用いることで、小径ウェハを製造する基板製造装置におけるトレイの待機場所を確保することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ウェハを複数枚搭載可能な形状である複数枚のトレイと、
前記ウェハ及び前記トレイの搬送を行う搬送ロボットと、処理前または処理後の前記ウェハが収容される小径ウェハカセットと、前記ウェハの位置と向きを揃えるアライナと、前記トレイの位置と向きを揃える移載機とを有する大気搬送室と、
前記トレイに搭載された前記ウェハを処理する処理装置とを備える基板製造装置において、
前記トレイを保管することの可能な段が複数設けられたトレイストッカを前記大気搬送室に備えることを特徴とする基板製造装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (46件):
5F131AA02
, 5F131AA11
, 5F131BB03
, 5F131CA02
, 5F131CA32
, 5F131CA52
, 5F131DA22
, 5F131DA32
, 5F131DA33
, 5F131DA36
, 5F131DA37
, 5F131DA42
, 5F131DA43
, 5F131DB02
, 5F131DB52
, 5F131DB72
, 5F131DD03
, 5F131DD27
, 5F131DD29
, 5F131DD32
, 5F131DD43
, 5F131DD59
, 5F131DD73
, 5F131DD89
, 5F131FA02
, 5F131FA13
, 5F131FA32
, 5F131FA33
, 5F131GA05
, 5F131GA18
, 5F131GA26
, 5F131GA33
, 5F131GA42
, 5F131GA52
, 5F131GA62
, 5F131GB03
, 5F131GB13
, 5F131GB25
, 5F131GB28
, 5F131GB29
, 5F131JA05
, 5F131JA14
, 5F131KA05
, 5F131KA24
, 5F131KA56
, 5F131KB24
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