レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-146484
公開番号（公開出願番号）：特開2014-010269
出願日： 2012年06月29日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：

【課題】スカムの発生が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂と酸増殖剤とを含有し、樹脂が、放射線の照射により分解して酸を発生する構造単位と、式(a1-1)で表される構造単位と、式(a1-2)で表される構造単位とを含む樹脂であるレジスト組成物。[式中、La1及びLa2は酸素原子等;Ra4及びRa5は水素原子又はメチル基;Ra6及びRa7は炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基;m1は0〜14の整数;n1は0〜10の整数;n1’は0〜3の整数を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

樹脂と酸増殖剤とを含有し、樹脂が、放射線の照射により分解して酸を発生する構造単位と、式(a1-1)で表される構造単位と、式(a1-2)で表される構造単位とを含む樹脂であるレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/10 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 503Z , G03F7/004 501 , C08F220/10 , H01L21/30 502R

Fターム (59件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF51P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ43Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ69X , 2H125AJ69Y , 2H125AL11 , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB07R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02R , 4J100BA03T , 4J100BA11S , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA20R , 4J100BA51R , 4J100BA56R , 4J100BB10R , 4J100BB11R , 4J100BB12R , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC09T , 4J100BC43R , 4J100BC53S , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100JA38

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