特許
J-GLOBAL ID：201403056186032994
シリコンナノ粒子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 高橋 俊一
, 伊藤 正和
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-044180
公開番号（公開出願番号）：特開2014-172766
出願日： 2013年03月06日
公開日（公表日）： 2014年09月22日
要約：
【課題】シリコンナノ粒子を製造する際に粒子凝集を抑えて粒径を充分に制御することが可能なシリコンナノ粒子の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】シリコンナノ粒子の製造する際、水とメタノールとを混合させた混合溶液10にシリコン粉末11を投入する投入工程と、シリコン粉末11を構成するシリコン粒子13を混合溶液10内で予め分散させる前分散処理工程と、前分散処理工程後の混合溶液にエッチング液を投入してシリコン粒子13を細径化させることでシリコンナノ粒子15とするエッチング工程とを行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造するシリコンナノ粒子の製造方法であって、
水と有機溶媒とを混合させた混合溶液にシリコン粉末を投入する投入工程と、
前記シリコン粉末を構成するシリコン粒子を前記混合溶液内で予め分散させる前分散処理工程と、
前記前分散処理工程を行った後の前記混合溶液にエッチング液を投入して前記シリコン粒子を細径化させることでシリコンナノ粒子とするエッチング工程と、
を備えることを特徴とするシリコンナノ粒子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072LL06
, 4G072LL11
, 4G072MM26
, 4G072MM40
, 4G072RR12
, 4G072UU01
, 4G072UU02
, 4G072UU30
