光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-207698
公開番号（公開出願番号）：特開2014-063863
出願日： 2012年09月21日
公開日（公表日）： 2014年04月10日
要約：

【課題】塩素系ガスに対するエッチング耐性に優れ、かつ金型を押し当てた場合の転写性が良好で、かつ基材との密着性のよい光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。さらには、長期間保存安定性のよい光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。【解決手段】光硬化性ナノインプリント用組成物は、(A)特定の金属アルコキシド、(B)(メタ)アクリル基を有する酸性基含有重合性単量体、(C)(メタ)アクリル基を有する酸性基非含有重合性単量体、(D)光重合開始剤を含む態様のものである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)

IPC (5件)：

H01L 21/027 , C08F 2/44 , H01L 21/306 , B29C 59/02 , B29C 33/38

FI (5件)：

H01L21/30 502D , C08F2/44 Z , H01L21/302 105A , B29C59/02 Z , B29C33/38

Fターム (57件)：

4F202AA44 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AJ06 , 4F202AM32 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CB29 , 4F202CD02 , 4F202CD24 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AJ06 , 4F209AM32 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PG01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 4J011PA49 , 4J011PA50 , 4J011PB40 , 4J011PC02 , 4J011PC08 , 4J011QA03 , 4J011QA07 , 4J011QA12 , 4J011QA13 , 4J011QA22 , 4J011QA42 , 4J011QA50 , 4J011SA02 , 4J011SA05 , 4J011SA15 , 4J011SA16 , 4J011SA20 , 4J011SA54 , 4J011SA58 , 4J011SA61 , 4J011SA78 , 4J011SA83 , 4J011SA84 , 4J011UA01 , 4J011UA02 , 4J011WA01 , 5F004AA09 , 5F004DA04 , 5F004DB14 , 5F004EA03 , 5F004EB08 , 5F146AA32 , 5F146AA33

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