特許

J-GLOBAL ID：201403058834148858

形状測定装置、および形状測定方法

発明者： 中内 章博
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-185107
公開番号（公開出願番号）：特開2014-044060
出願日： 2012年08月24日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：

【課題】被検面上での光束入射位置の変化に起因して発生し得る測定精度への影響を抑えるのに有利な形状測定装置を提供する。【解決手段】形状測定装置1は、対象物に対する光束3の投受光を行う測長計6と、測長計6からの光束3を基準点Qを基準として偏向させる光束偏向機構7と、対象物の被検面2に対して光束3が垂直に入射する場合の被検面2と基準点Qとの間の距離L0と光束偏向機構7による最大光束偏向角θmaxとの少なくとも一方を、被検面2での光束3のスポット径の変化に依存する第1の測定誤差と、被検面2での光束3の入射角αに依存する第2の測定誤差との合成誤差が、許容される測定誤差の閾値以下となるように決定する制御部5とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光束の投受光により対象物の形状を測定する形状測定装置であって、 前記対象物に対する前記光束の投受光を行う測長計と、 前記測長計からの前記光束を基準点を基準として偏向させる光束偏向機構と、 前記対象物の被検面に対して前記光束が垂直に入射する場合の前記被検面と前記基準点との間の距離と前記光束偏向機構による最大光束偏向角との少なくとも一方を、前記被検面での前記光束のスポット径の変化に依存する第1の測定誤差と、前記被検面での前記光束の入射角に依存する第2の測定誤差との合成誤差が、許容される測定誤差の閾値以下となるように決定する制御部と、 を備えることを特徴とする形状測定装置。

IPC (1件)：

G01B 11/24

FI (1件)：

G01B11/24 A

Fターム (10件)：

2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065LL13 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ13