特許
J-GLOBAL ID:201403060443779173
ガラス基板上にシリカコーティングを形成するプロセス
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 結城 仁美
, 神 紘一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-530313
公開番号(公開出願番号):特表2014-526432
出願日: 2012年09月13日
公開日(公表日): 2014年10月06日
要約:
ガラス基板上にシリカ層を蒸着する化学蒸着プロセスが提供される。プロセスは、ガラス基板を用意することを含む。また、プロセスは、シラン化合物、酸素、水蒸気、およびラジカル捕捉剤を含むガス状前駆物質混合物を形成すること、および前駆物質混合物を、ガラス基板の方向に、その基板に平行に流すことを含む。混合物は、ガラス基板上で反応し、その基板上にシリカコーティングを形成する。【選択図】図1.
請求項(抜粋):
シリカコーティングを蒸着する化学蒸着プロセスであって、
ガラス基板を用意すること、
シラン化合物、酸素、水蒸気、およびラジカル捕捉剤を含むガス状前駆物質混合物を形成すること、および
前記前駆物質混合物を前記ガラス基板の方向に、前記基板に平行に流し、前記ガラス基板の上で前記混合物を反応させて、シリカコーティングを前記基板の上に形成すること、
を含む化学蒸着プロセス。
IPC (4件):
C03C 17/245
, C03C 17/34
, C23C 16/42
, C23C 16/40
FI (4件):
C03C17/245 Z
, C03C17/34 Z
, C23C16/42
, C23C16/40
Fターム (31件):
4G059AA01
, 4G059AC07
, 4G059EA02
, 4G059EA05
, 4G059EB01
, 4G059GA01
, 4G059GA04
, 4G059GA12
, 4K030AA02
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030AA24
, 4K030BA16
, 4K030BA42
, 4K030BA44
, 4K030BB12
, 4K030CA06
, 4K030CA17
, 4K030EA01
, 4K030GA04
, 4K030GA14
, 4K030HA04
, 4K030JA04
, 4K030JA06
, 4K030JA10
, 4K030JA12
, 4K030KA02
, 4K030LA16
引用特許: