特許

J-GLOBAL ID：201403060780543041

真空蒸着装置及びその蒸着方法

発明者： 木谷 友香 ,  井崎 良 ,  矢崎 秋夫
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-216328
公開番号（公開出願番号）：特開2014-070238
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：

【課題】本発明は、トータルメンテナンス時間短縮の為、その一つであるプレコートの時間をより短縮し、かつ水晶振動子に付着困難であった材料を付着可能にすることができる真空蒸着装置及びその蒸着方法を提供することにある。【解決手段】真空チャンバ内に配置された少なくとも2つ以上の蒸発源と、この蒸発源のそれぞれに対応して設置された膜厚センサとを有し、前記蒸発源のうち、一方の蒸発源に有する付着しにくい材料の前記膜厚センサに他方の蒸発源に有する材料を導入するようにしたものである。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に配置された少なくとも2つ以上の蒸発源と、この蒸発源のそれぞれに対応して設置された膜厚センサとを有し、 前記蒸発源のうち、一方の蒸発源に有する付着しにくい材料の前記膜厚センサに他方の蒸発源に有する材料を導入することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/26

FI (5件)：

C23C14/24 U ,  C23C14/24 C ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/26 Z

Fターム (15件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD44X ,  3K107DD44Y ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG34 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA22 ,  4K029CA01 ,  4K029DA03 ,  4K029DB03 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18