特許

J-GLOBAL ID：201403061587505325

基板処理装置

発明者： 田代 祥一
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人暁合同特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-144164
公開番号（公開出願番号）：特開2014-011166
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：

【課題】基板の傷付きを抑制する。【解決手段】CVD装置(基板処理装置)40は、ガラス基板(基板)GSを収容してそのガラス基板GSに処理を施すための処理室41と、処理室41内に配されていてガラス基板GSが載置される載置台46と、載置台46上にてガラス基板GSを昇降させるリフトピン48であって、ガラス基板GSの板面に並行し且つその板面を下側から支持する平坦支持面49と、当該リフトピン48の周縁に形成されて丸みを帯びた断面形状の曲面50とを有するリフトピン48と、を備える。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

基板を収容してその基板に処理を施すための処理室と、 前記処理室内に配されていて前記基板が載置される載置台と、 前記載置台上にて前記基板を昇降させるリフトピンであって、前記基板の板面に並行し且つその板面を下側から支持する平坦支持面と、当該リフトピンの周縁に形成されて丸みを帯びた断面形状の曲面とを有するリフトピンと、を備える基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ,  G09F 9/00

FI (2件)：

H01L21/68 N ,  G09F9/00 342Z

Fターム (14件)：

5F131AA03 ,  5F131AA12 ,  5F131AA32 ,  5F131BA04 ,  5F131CA07 ,  5F131CA09 ,  5F131EB56 ,  5F131EB72 ,  5F131EB79 ,  5F131EB81 ,  5G435AA17 ,  5G435KK05 ,  5G435KK07 ,  5G435KK10