特許
J-GLOBAL ID:201403061702593411

照明装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-163795
公開番号(公開出願番号):特開2014-026736
出願日: 2012年07月24日
公開日(公表日): 2014年02月06日
要約:
【課題】各発光ダイオード光源が点状に視認されることが抑制され、光源ユニットの短手方向の光の拡散性及び短手方向の光の均一性に優れ、しかも低コスト化できる照明装置を提供する。【解決手段】本発明の照明装置1は、複数個の発光ダイオード光源11が線状に配列された光源ユニット10と、光源ユニット10の光出射側に設けられた光拡散体20とを備え、光拡散体20は、凹凸が光源ユニットの長手方向と直交する方向に沿って繰り返している第1の凹凸パターン21aと、凹凸が光源ユニットの長手方向に沿って繰り返している第2の凹凸パターン22aとを備え、第1の凹凸パターン21aの最頻ピッチA1とアスペクト比(B1/A1)、第2の凹凸パターン22aの最頻ピッチA2及びアスペクト比(B2/A2)が特定範囲にある。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数個の発光ダイオード光源が線状に配列された光源ユニットと、該光源ユニットの光出射側に設けられた光拡散体とを備える照明装置において、 光拡散体は、凹凸が光源ユニットの長手方向と直交する方向に対して±20°の範囲の方向に沿って繰り返している第1の凹凸パターンと、凹凸が光源ユニットの長手方向に対して±20°の範囲の方向に沿って繰り返している第2の凹凸パターンとを備え、 第1の凹凸パターンは、凹凸パターンの最頻ピッチA1が200〜2000μm、最頻ピッチA1に対する凹凸の平均深さB1の比(B1/A1)が0.05〜0.4であり、 第2の凹凸パターンは、第1の凹凸パターンよりも光源ユニット側に配置され、第2の凹凸パターンの凸部先端は光源ユニットと反対側に向けられ、凹凸パターンの最頻ピッチA2が1.0μmを超え30μm以下、最頻ピッチA2に対する凹凸の平均深さB2の比(B2/A2)が0.1〜3.0である照明装置。
IPC (2件):
F21S 2/00 ,  G02F 1/133
FI (2件):
F21S2/00 431 ,  G02F1/13357
Fターム (28件):
2H191FA42Z ,  2H191FA45Z ,  2H191FA85Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB22 ,  2H191FB23 ,  2H191FC24 ,  2H191FD04 ,  2H191FD15 ,  2H191FD33 ,  2H191GA02 ,  2H191GA24 ,  2H191LA13 ,  2H191LA21 ,  2H191LA24 ,  3K244AA04 ,  3K244BA08 ,  3K244BA28 ,  3K244BA48 ,  3K244CA02 ,  3K244DA01 ,  3K244GA01 ,  3K244GB02 ,  3K244GB06 ,  3K244GB14 ,  3K244GC02 ,  3K244GC09 ,  3K244GC14
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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