特許

J-GLOBAL ID：201403062714603770

蒸着装置及び蒸着方法

発明者： 川戸 伸一 ,  井上 智 ,  園田 通 ,  橋本 智志
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012055380
公開番号（公開出願番号）：WO2012-124512
出願日： 2012年03月02日
公開日（公表日）： 2012年09月20日
要約：

蒸着粒子(91)を放出する複数の蒸着源開口(61)を備えた蒸着源(60)と、複数の制限開口(82)を備えた制限ユニット(80)と、複数の制限開口をそれぞれ通過した蒸着粒子が到達する複数の蒸着領域(72)内のみに複数のマスク開口(71)が形成された蒸着マスク(70)とを備える。複数の蒸着領域は、基板(10)の法線方向及び基板の移動方向に直交する第2方向に沿って、蒸着粒子が到達しない非蒸着領域(73)を挟んで配置されている。基板の法線方向に沿って見たとき、第2方向に平行な直線上の非蒸着領域に対して、基板の移動方向において異なる位置に、蒸着粒子が通過するマスク開口が形成されている。これにより、端縁のボヤケが抑えられた蒸着被膜を、基板上の所望する位置に安定的に形成することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に所定パターンの被膜を形成する蒸着装置であって、 前記蒸着装置は、蒸着ユニットと、前記基板の法線方向に直交する第1方向に沿って前記基板及び前記蒸着ユニットのうちの一方を他方に対して相対的に移動させる移動機構とを備え、 前記蒸着ユニットは、 それぞれが蒸着粒子を放出する複数の蒸着源開口を備えた蒸着源と、 前記複数の蒸着源開口から放出された前記蒸着粒子がそれぞれ通過する複数の制限開口を備えた制限ユニットと、 前記複数の制限開口をそれぞれ通過した前記蒸着粒子が到達する複数の蒸着領域内のみに複数のマスク開口が形成された蒸着マスクとを備え、 前記複数の蒸着領域は、前記法線方向及び前記第1方向に直交する第2方向に沿って、前記蒸着粒子が到達しない非蒸着領域を挟んで配置されており、 前記法線方向に沿って見たとき、前記第2方向に平行な直線上の前記非蒸着領域に対して、前記第1方向において異なる位置に、前記蒸着粒子が通過するマスク開口が形成されていることを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (23件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC35 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029EA07 ,  4K029HA03 ,  4K029KA01