特許
J-GLOBAL ID：201403062789602060

パターン評価方法およびパターン評価装置

発明者：
小川 力

小川 力 について

, 
菊入 信孝

菊入 信孝 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (2件)： 大阿久 敦子 ,  山下 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-199366
公開番号（公開出願番号）：特開2014-055789
出願日： 2012年09月11日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：
【課題】微細なパターンを精度よく、また、スループットの低下を引き起こさずに評価することのできるパターン評価方法およびパターン評価装置を提供する。【解決手段】光源5からの光を照射して、光学系の解像度以下の周期の繰り返しパターンを有する試料1の光学画像を取得する。次に、光学画像の各画素に階調値を付与し、所定の単位領域毎の平均階調値および単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める。次いで、平均階調値を繰り返しパターンの単位領域における平均的な線幅情報に換算する処理、および、階調値のばらつきを繰り返しパターンのラフネスに換算する処理の少なくとも一方を行い、得られた換算値を用いて、平均的な線幅情報およびラフネスの少なくとも一方の分布を表すマップを作成する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
光学系を構成する光源からの光を照射して、前記光学系の解像度以下の周期の繰り返しパターンを有する試料の光学画像を取得する工程と、 前記光学画像の各画素に階調値を付与し、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める工程と、 前記平均階調値を前記繰り返しパターンの前記単位領域における平均的な線幅情報に換算する処理、および、前記階調値のばらつきを前記繰り返しパターンのラフネスに換算する処理の少なくとも一方を行い、得られた換算値を用いて、前記平均的な線幅情報および前記ラフネスの少なくとも一方の分布を表すマップを作成する工程とを有することを特徴とするパターン評価方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502V
Fターム (44件)：
2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065FF51 ,  2F065GG21 ,  2F065HH06 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ00 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR09 ,  2F065UU05 ,  2G051AA56 ,  2G051AB05 ,  2G051AB20 ,  2G051AC21 ,  2G051BA05 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CC09 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  5F146AA32
引用特許：
審査官引用 (3件)

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