特許

J-GLOBAL ID：201403063113126253

ガスバリア積層フィルムとその製造方法

発明者： 天内 英隆 ,  宮崎 亮
出願人/特許権者： 三菱樹脂株式会社
代理人 (2件)： 大谷 保 ,  伊藤 高志
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012058478
公開番号（公開出願番号）：WO2012-133704
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

基材フィルムの少なくとも一方の面に、複数層の無機薄膜層を形成してなるガスバリア積層フィルムであって、前記無機薄膜層における前記基材フィルム側の第1層から第n層(nは1以上の整数)が非プラズマ成膜法により成膜されてなり、その上に接して成膜される第n+1層が対向ターゲットスパッタ法により成膜されてなるガスバリア積層フィルム、並びに、基材フィルムの少なくとも一方の面に、一層又は複数層の無機薄膜層を形成するガスバリア積層フィルムの製造方法であって、前記無機薄膜層における前記基材フィルム側の第1層〜第n層を非プラズマ成膜法により成膜し、その上に接する第n+1層を対向ターゲットスパッタ法により成膜するガスバリア積層フィルムの製造方法であり、無機薄膜層を成膜する基材フィルム、特に、樹脂フィルムに対するダメージが少なく、緻密性の高い無機薄膜層が成膜され、ガスバリア性が高く、生産性に優れたガスバリア積層フィルムとその製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

基材フィルムの少なくとも一方の面に、複数層の無機薄膜層を形成してなるガスバリア積層フィルムであって、前記無機薄膜層における前記基材フィルム側の第1層から第n層(nは1以上の整数)までが非プラズマ成膜法により成膜されてなり、その上に接して成膜される第n+1層が対向ターゲットスパッタ法により成膜されてなるガスバリア積層フィルム。

IPC (3件)：

B32B 9/00 ,  C23C 16/42 ,  C23C 14/06

FI (3件)：

B32B9/00 A ,  C23C16/42 ,  C23C14/06 E

Fターム (42件)：

4F100AA02C ,  4F100AA02D ,  4F100AA12C ,  4F100AA17C ,  4F100AA19C ,  4F100AA20C ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100AK51 ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EH462 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ551 ,  4F100EJ65B ,  4F100JD02 ,  4F100JL02 ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA41 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC32 ,  4K029FA07 ,  4K030BA40 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA48 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA17 ,  4K030HA03