特許
J-GLOBAL ID:201403064323108220
シリカ系多孔質膜、シリカ系多孔質膜付き物品およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-093957
公開番号(公開出願番号):特開2014-214063
出願日: 2013年04月26日
公開日(公表日): 2014年11月17日
要約:
【課題】良好な反射防止性能と防汚性とを有し、製造工程も簡便なシリカ系多孔質膜、これを備える物品およびその製造方法の提供。【解決手段】シリカを主成分とするマトリックス中に複数の空孔を有するシリカ系多孔質膜であって、屈折率が1.10〜1.38の範囲内であり、前記空孔として、直径20nm以上の空孔を含み、最表面に開口した直径20nm以上の空孔の数が13個/106nm2以下であり、前記最表面の水接触角が70°以上であることを特徴とする、シリカ系多孔質膜。【選択図】なし
請求項(抜粋):
シリカを主成分とするマトリックス中に複数の空孔を有するシリカ系多孔質膜であって、
屈折率が1.10〜1.38の範囲内であり、
前記空孔として、直径20nm以上の空孔を含み、
最表面に開口した直径20nm以上の空孔の数が13個/106nm2以下であり、
前記最表面の水接触角が70°以上であることを特徴とする、シリカ系多孔質膜。
IPC (7件):
C01B 33/12
, C09D 7/12
, C09D 5/16
, C09D 183/00
, C09D 183/04
, C09D 183/07
, G02B 1/11
FI (7件):
C01B33/12 C
, C09D7/12
, C09D5/16
, C09D183/00
, C09D183/04
, C09D183/07
, G02B1/10 A
Fターム (43件):
2K009AA04
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009CC23
, 2K009CC24
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 2K009EE05
, 4G072AA25
, 4G072BB09
, 4G072BB15
, 4G072FF01
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072JJ16
, 4G072JJ47
, 4G072KK01
, 4G072KK17
, 4G072LL11
, 4G072MM36
, 4G072NN21
, 4G072RR05
, 4G072TT08
, 4G072TT30
, 4G072UU30
, 4J038CA022
, 4J038CC022
, 4J038CG032
, 4J038CG162
, 4J038DL051
, 4J038DL101
, 4J038HA026
, 4J038KA20
, 4J038NA05
, 4J038NA19
, 4J038PB02
, 4J038PB05
, 4J038PB06
, 4J038PB07
, 4J038PB08
, 4J038PB09
, 4J038PC03
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