特許
J-GLOBAL ID:201403065061400737

微粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人あいち国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-273197
公開番号(公開出願番号):特開2014-118588
出願日: 2012年12月14日
公開日(公表日): 2014年06月30日
要約:
【課題】界面活性剤を添加する必要がなく、収率が高く、かつ汎用性が高い微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】溶媒2中に配置した金属又は金属酸化物のバルク3にレーザを照射することにより、レーザアブレーションによって上記金属又は上記金属酸化物の微粒子1を製造する。レーザを照射する際に、微粒子1を担持する担体粒子4を溶媒2中に予め分散させておく。これにより、微粒子1同士の凝集を抑制でき、界面活性剤を溶媒2に添加する必要がなくなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
溶媒(2)中に配置した金属又は金属酸化物のバルク(3)にレーザを照射することにより、レーザアブレーションによって上記金属又は上記金属酸化物の微粒子(1)を製造する方法であって、 上記微粒子(1)を担持する担体粒子(4)を上記溶媒(2)中に予め分散させた状態で、上記バルク(3)に上記レーザを照射することを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (5件):
B22F 9/02 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/34 ,  C22C 19/05 ,  B22F 1/00
FI (6件):
B22F9/02 A ,  B01J35/02 H ,  B01J37/34 ,  C22C19/05 Z ,  B22F1/00 M ,  B22F1/00 P
Fターム (39件):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA01B ,  4G169BA02B ,  4G169BA04B ,  4G169BA05B ,  4G169BA07B ,  4G169BB02A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC43B ,  4G169BC58B ,  4G169BC59B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CB81 ,  4G169DA05 ,  4G169FA02 ,  4G169FB18 ,  4G169FB30 ,  4G169FB48 ,  4G169FB57 ,  4G169FB58 ,  4K017AA04 ,  4K017AA06 ,  4K017BA03 ,  4K017BA04 ,  4K017BB04 ,  4K017CA08 ,  4K017DA09 ,  4K017EF05 ,  4K018AA08 ,  4K018AA22 ,  4K018BB05 ,  4K018BC01 ,  4K018BD10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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