特許
J-GLOBAL ID:201403065061400737
微粒子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人あいち国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-273197
公開番号(公開出願番号):特開2014-118588
出願日: 2012年12月14日
公開日(公表日): 2014年06月30日
要約:
【課題】界面活性剤を添加する必要がなく、収率が高く、かつ汎用性が高い微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】溶媒2中に配置した金属又は金属酸化物のバルク3にレーザを照射することにより、レーザアブレーションによって上記金属又は上記金属酸化物の微粒子1を製造する。レーザを照射する際に、微粒子1を担持する担体粒子4を溶媒2中に予め分散させておく。これにより、微粒子1同士の凝集を抑制でき、界面活性剤を溶媒2に添加する必要がなくなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
溶媒(2)中に配置した金属又は金属酸化物のバルク(3)にレーザを照射することにより、レーザアブレーションによって上記金属又は上記金属酸化物の微粒子(1)を製造する方法であって、
上記微粒子(1)を担持する担体粒子(4)を上記溶媒(2)中に予め分散させた状態で、上記バルク(3)に上記レーザを照射することを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (5件):
B22F 9/02
, B01J 35/02
, B01J 37/34
, C22C 19/05
, B22F 1/00
FI (6件):
B22F9/02 A
, B01J35/02 H
, B01J37/34
, C22C19/05 Z
, B22F1/00 M
, B22F1/00 P
Fターム (39件):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA01B
, 4G169BA02B
, 4G169BA04B
, 4G169BA05B
, 4G169BA07B
, 4G169BB02A
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC43B
, 4G169BC58B
, 4G169BC59B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CB81
, 4G169DA05
, 4G169FA02
, 4G169FB18
, 4G169FB30
, 4G169FB48
, 4G169FB57
, 4G169FB58
, 4K017AA04
, 4K017AA06
, 4K017BA03
, 4K017BA04
, 4K017BB04
, 4K017CA08
, 4K017DA09
, 4K017EF05
, 4K018AA08
, 4K018AA22
, 4K018BB05
, 4K018BC01
, 4K018BD10
引用特許:
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