特許

J-GLOBAL ID：201403065225341915

基板処理装置

発明者： 芳川 典生 ,  清久 悟志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 大坪 隆司 ,  村口 佐智子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-216728
公開番号（公開出願番号）：特開2014-069126
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：

【課題】 簡易な構成でありながら、基板の表面への裏面用の洗浄液の回り込みを防止しつつ、基板の裏面を適正に処理することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 裏面洗浄部4は、ガラス基板100の搬送方向と直交する方向に配設され、洗浄液を吐出するための多数の吐出口45がガラス基板100の搬送方向と直交する方向に列設されたノズル本体43と、このノズル本体43に洗浄液を供給するための洗浄液供給管44と、このノズル本体43の上部においてガラス基板100の搬送方向に対して所定の間隔を置いて吐出口45の両側に配置された一対の支持部41と、これらの支持部41に各々接続され、一対の支持部41から搬送ローラ9によるガラス基板100の搬送方向の上流側および下流側に各々突出する一対の鍔部42とを備える。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

基板処理チャンバーと、 前記基板処理チャンバー内において、基板をその主面が水平となる状態で水平方向に搬送する搬送機構と、 前記搬送機構により搬送される基板の表面に第1の処理液を供給して基板の表面を処理する表面処理液供給部と、 前記搬送機構により搬送される基板の下方に配置され、前記基板の裏面に前記第1の処理液とは異なる第2の処理液を供給することにより、前記基板の裏面を処理する裏面処理液供給部と、 を備えた基板処理装置において、 前記裏面処理液供給部は、 前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に配設され、前記第2の処理液を吐出する吐出部が前記搬送機構による基板の搬送方向と交差する方向に形成されたノズル本体と、 前記ノズル本体の上部に付設され、前記搬送機構により搬送される基板の裏面に前記吐出部より吐出された第2の処理液を接液させた後に流下させる処理液接液部と、 を備え、 前記処理液接液部は、当該処理液接液部からの第2の処理液の流下量を、前記搬送機構による基板の搬送方向の下流側より、前記搬送機構による基板の搬送方向の上流側で大きくなるように構成される基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 ,  G02F 1/13

FI (3件)：

B08B3/02 C ,  H01L21/304 643B ,  G02F1/13 101

Fターム (23件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB25 ,  3B201BB33 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  5F157AA16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB82 ,  5F157AB94 ,  5F157BB23 ,  5F157BB33 ,  5F157DB02 ,  5F157DC31