特許
J-GLOBAL ID：201403066215794810
ガスレーザ発振装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
内藤 浩樹
, 永野 大介
, 藤井 兼太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143730
公開番号（公開出願番号）：特開2014-007352
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2014年01月16日
要約：
【課題】軸流型ガスレーザ発振装置において、放電管内のレーザガス流速を上げ、且つレーザガス流を均一化し、放電を安定化させるため、レーザガスの流れを阻害するオリフィスが設けられており、レーザ出力を増大させる妨げとなっていた。【解決手段】ガス流速を上げ、且つレーザガス流を均一化するために、ガス絞り体のオリフィスを備えた軸流型ガスレーザ発振装置において、前記オリフィスのガス流上流側と下流側をバイパスしたガス流路を設け、バイパスガス流路の断面積を、その断面積とオリフィスの複数穴の総面積とを足し合わせた面積が、放電管の断面積と同等かそれ以上に設定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザガスを励起させる放電管と、前記放電管の内部にレーザガスを流すとともにレーザガスを循環させる流路を形成したガスレーザ発振装置であって、
前記放電管にガスを送り込む第1のガス流路と第2のガス流路を設け、
前記第1のガス流路の前記放電管への導入部には、1または複数の穴を形成したオリフィスと、前記オリフィスの穴の一つに配置したピン状の電極を設け、
前記第2のガス流路の前記放電管への導入部は、前記放電管のレーザガスの流れる方向を基準にして、前記第1のガス流路の導入部の後方に位置するように配置したガスレーザ発振装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
5F071CC01
, 5F071CC03
, 5F071DD08
, 5F071EE03
, 5F071JJ04
, 5F071JJ05
