特許

J-GLOBAL ID：201403066875209376

光学機器用遮光材及びその製造方法

発明者： 豊島 靖麿 ,  大久保 貴志
出願人/特許権者： 株式会社きもと
代理人 (1件)： 大倉 宏一郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012055054
公開番号（公開出願番号）：WO2012-132728
出願日： 2012年02月29日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

遮光性など遮光膜の必要物性を保持しながら、低光沢度領域が広い遮光膜を有する光学機器用遮光材を製造する方法を提供する。基材上に遮光膜が形成された光学機器用遮光材を製造する方法において、少なくともバインダー樹脂、黒色微粒子及び、変動係数が20以上のマット剤を含む塗工液を準備する。次に、この塗工液を基材上に塗布し、乾燥させ、遮光膜を形成する。

請求項（抜粋）：

基材上に遮光膜が形成された光学機器用遮光材を製造する方法において、 少なくともバインダー樹脂、黒色微粒子及び、変動係数が20以上のマット剤を含む塗工液を準備し、この塗工液を基材上に塗布し、乾燥させ、遮光膜を形成することを特徴とする光学機器用遮光材の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/00 ,  G03B 9/36 ,  G03B 9/02

FI (3件)：

G02B5/00 B ,  G03B9/36 A ,  G03B9/02 A

Fターム (6件)：

2H042AA15 ,  2H042AA22 ,  2H042AA28 ,  2H080AA13 ,  2H081AA19 ,  2H081AA43