成膜装置及び成膜用マスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-190133
公開番号（公開出願番号）：特開2014-047379
出願日： 2012年08月30日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：

【課題】マスクの剛性を保ちつつ、非着膜領域に対する成膜材料の付着を防ぐことができる成膜装置及び成膜用マスクを提供する。【解決手段】成膜用のマスクMの開口部M1を介して基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置において、マスクMは、開口部M1が形成されたマスク本体M2と、開口部M1を除く領域のうち少なくとも一部に、基板との間で弾性変形するシール部材Eとを備え、シール部材Eは、マスク本体M2の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該シール部材Eの取付位置でのマスク本体M2の歪み量以上である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

成膜用のマスクの開口部を介して基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置において、前記マスクは、前記開口部が形成されたマスク本体と、前記開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、前記基板との間で弾性変形する弾性部材とを備え、前記弾性部材は、前記マスク本体の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該弾性部材の取付位置での前記マスク本体の歪み量以上であることを特徴とする成膜装置。

IPC (1件)：

C23C 14/04

FI (1件)：

C23C14/04 A

Fターム (6件)：

4K029BB03 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029CA11 , 4K029HA02 , 4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

薄膜パターン形成用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-354875 出願人：東レ株式会社
マスク治具
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-248394 出願人：アキレス株式会社

審査官引用 (2件)

薄膜パターン形成用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-354875 出願人：東レ株式会社
マスク治具
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-248394 出願人：アキレス株式会社

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